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半导体--厂务系统过滤
图片说明：一、半导体厂务超纯气体过滤
电子气体广泛运用于半导体制程的各种工艺中，随着半导体晶圆尺寸的微小化，若电子气体的纯度或净度不达标，就会影响半导体的良品率。
一座半导体厂在生产中可能使用的电子气体约50种，可分为大宗气体（Bulk Gas）和特殊气体（Special Gas）。大宗气体包含N₂、O₂、Ar等，特殊气体可分为惰性气体、燃烧气体和腐蚀气体。
目前半导体厂对大宗气体的纯度要求达到3N，对特种气体的纯度要求则达到了5N-6N（N 指纯度百分比中9的个数），厂务系统需要配套的气体过滤设备阻隔污染物。
二、半导体厂务超纯化学品过滤
在半导体制造过程中，高达20%工艺步骤是清洗和晶圆表面的处理，涉及到多种湿电子化学品。
在湿电子化学品SEMI标准等级表格中，可以看到高等级湿电子化学品对纯度的要求已达到ppt级别，在这些超纯化学品正式进入制程前，半导体厂务系统要对其进行必要的过滤处理。
三、半导体厂务超纯水过滤
厂务系统还需要对生产中使用的超纯水进行质量把关。半导体生产过程需要用到的水分为冷却循环水与工艺点位用水两大类。
冷却循环水在半导体厂务系统中需要大批量，不间断的长期供应，对过滤的稳定性提出了很高的要求。
而用于点位的超纯水被称作 “行业血脉”，指标要求高之又高，除对温度、电阻率、颗粒物、溶解氧等指标有规定外，水中的二氧化硅、硼等元素的含量也要进行严格的控制，因为这些元素与半导体晶圆的组成元素相同或相近，很容易参与生产线上的反应而造成产品良率下降。
四、半导体厂务空气过滤
在半导体生产车间，粉尘、颗粒等污染物除直接影响成品合格率外，这些污染物粘在集成电路上还有可能造成断路、短路，甚至有火灾的安全隐患，所以半导体生产制程要在严格控制的环境条件的洁净室中进行，厂务系统则负责保障洁净室的洁净等级。
芯片厂传统的通风形式是在车间整个天花板上布满高效空气过滤器，整个地面作为回风栅板，如今，芯片厂中有些车间会使用自带风机的过滤装置，即FFU。
FFU循环系统不仅洁净度安全性高，而且可以节省运行空间，操作灵活性高，可以在不影响生产的情况下随时进行系统升级和调整，在拥有以上优点的同时，它还有较低的运行成本，因此在半导体制造中，FFU循环系统逐渐成为主要的无尘车间工程设计方案，在使用FFU时多采用双面密封条无隔板过滤器与之配套。
电子气体广泛运用于半导体制程的各种工艺中，随着半导体晶圆尺寸的微小化，若电子气体的纯度或净度不达标，就会影响半导体的良品率。
一座半导体厂在生产中可能使用的电子气体约50种，可分为大宗气体（Bulk Gas）和特殊气体（Special Gas）。大宗气体包含N₂、O₂、Ar等，特殊气体可分为惰性气体、燃烧气体和腐蚀气体。
目前半导体厂对大宗气体的纯度要求达到3N，对特种气体的纯度要求则达到了5N-6N（N 指纯度百分比中9的个数），厂务系统需要配套的气体过滤设备阻隔污染物。
二、半导体厂务超纯化学品过滤
在半导体制造过程中，高达20%工艺步骤是清洗和晶圆表面的处理，涉及到多种湿电子化学品。
在湿电子化学品SEMI标准等级表格中，可以看到高等级湿电子化学品对纯度的要求已达到ppt级别，在这些超纯化学品正式进入制程前，半导体厂务系统要对其进行必要的过滤处理。
三、半导体厂务超纯水过滤
厂务系统还需要对生产中使用的超纯水进行质量把关。半导体生产过程需要用到的水分为冷却循环水与工艺点位用水两大类。
冷却循环水在半导体厂务系统中需要大批量，不间断的长期供应，对过滤的稳定性提出了很高的要求。
而用于点位的超纯水被称作 “行业血脉”，指标要求高之又高，除对温度、电阻率、颗粒物、溶解氧等指标有规定外，水中的二氧化硅、硼等元素的含量也要进行严格的控制，因为这些元素与半导体晶圆的组成元素相同或相近，很容易参与生产线上的反应而造成产品良率下降。
四、半导体厂务空气过滤
在半导体生产车间，粉尘、颗粒等污染物除直接影响成品合格率外，这些污染物粘在集成电路上还有可能造成断路、短路，甚至有火灾的安全隐患，所以半导体生产制程要在严格控制的环境条件的洁净室中进行，厂务系统则负责保障洁净室的洁净等级。
芯片厂传统的通风形式是在车间整个天花板上布满高效空气过滤器，整个地面作为回风栅板，如今，芯片厂中有些车间会使用自带风机的过滤装置，即FFU。
FFU循环系统不仅洁净度安全性高，而且可以节省运行空间，操作灵活性高，可以在不影响生产的情况下随时进行系统升级和调整，在拥有以上优点的同时，它还有较低的运行成本，因此在半导体制造中，FFU循环系统逐渐成为主要的无尘车间工程设计方案，在使用FFU时多采用双面密封条无隔板过滤器与之配套。
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